Belgická výzkumná laboratoř imec zajistila dodávku litografického stroje High NA EUV od společnosti ASML v hodnotě 400 milionů dolarů. Toto pokročilé zařízení, kterých je v současnosti na světě méně než dvanáct, výrazně upevní roli instituce při přípravě nástrojů nové generace pro průmyslovou výrobu polovodičů.
Přední zákazníci jako Intel a SK Hynix plánují tyto systémy využívat k výrobě nových logických čipů pro umělou inteligenci a pamětí s vysokou propustností již v roce 2027. Získaný stroj bude ústředním prvkem pilotní linky NanoIC s celkovým rozpočtem 2,5 miliardy eur, z čehož 1,4 miliardy eur pochází z veřejných fondů, včetně evropského zákona o čipech.
Díky rozsáhlým dohodám s předními výrobci polovodičového vybavení, mezi které patří ASML, Applied Materials, LAM, KLA a Tokyo Electron, funguje imec jako klíčové testovací a vývojové centrum. Technologie High NA se vyznačuje větší numerickou aperturou, která umožňuje vytvářet obvodové struktury až o 66 % menší, čímž se zvyšuje výkon a energetická účinnost čipů. Zástupci ASML potvrdili, že tyto systémy jsou po letech vývoje plně připraveny pro komerční produkci.
Belgická výzkumná laboratoř imec zajistila dodávku litografického stroje High NA EUV od společnosti ASML v hodnotě 400 milionů dolarů. Toto pokročilé zařízení, kterých je v současnosti na světě méně než dvanáct, výrazně upevní roli instituce při přípravě nástrojů nové generace pro průmyslovou výrobu polovodičů.
Přední zákazníci jako Intel a SK Hynix plánují tyto systémy využívat k výrobě nových logických čipů pro umělou inteligenci a pamětí s vysokou propustností již v roce 2027. Získaný stroj bude ústředním prvkem pilotní linky NanoIC s celkovým rozpočtem 2,5 miliardy eur, z čehož 1,4 miliardy eur pochází z veřejných fondů, včetně evropského zákona o čipech.
Díky rozsáhlým dohodám s předními výrobci polovodičového vybavení, mezi které patří ASML, Applied Materials, LAM, KLA a Tokyo Electron, funguje imec jako klíčové testovací a vývojové centrum. Technologie High NA se vyznačuje větší numerickou aperturou, která umožňuje vytvářet obvodové struktury až o 66 % menší, čímž se zvyšuje výkon a energetická účinnost čipů. Zástupci ASML potvrdili, že tyto systémy jsou po letech vývoje plně připraveny pro komerční produkci.
Belgická výzkumná laboratoř imec zajistila dodávku litografického stroje High NA EUV od společnosti ASML v hodnotě 400 milionů dolarů. Toto pokročilé zařízení, kterých je v současnosti na světě méně než dvanáct, výrazně upevní roli instituce při přípravě nástrojů nové generace pro průmyslovou výrobu polovodičů. Přední zákazníci jako Intel a SK Hynix plánují tyto systémy využívat k výrobě nových logických čipů pro umělou inteligenci a pamětí s vysokou propustností již v roce 2027. Získaný stroj bude ústředním prvkem pilotní linky NanoIC s celkovým rozpočtem 2,5 miliardy eur, z čehož 1,4 miliardy eur pochází z veřejných fondů, včetně evropského zákona o čipech. Díky rozsáhlým dohodám s předními výrobci polovodičového vybavení, mezi které patří ASML, Applied Materials, LAM, KLA a Tokyo Electron, funguje imec jako klíčové testovací a vývojové centrum. Technologie High NA se vyznačuje větší numerickou aperturou, která umožňuje vytvářet obvodové struktury až o 66 % menší, čímž se zvyšuje výkon a energetická účinnost čipů. Zástupci ASML potvrdili, že tyto systémy jsou po letech vývoje plně připraveny pro komerční produkci.
