V pátek 13. října představila japonská technologická společnost Canon inovativní řešení, které má usnadnit výrobu špičkových polovodičových součástek. Podle zprávy CNBC byl nově představený systém “nanoimprintové litografie” navržen tak, aby konkuroval litografickým strojům holandské firmy ASML pro extrémní ultrafialové záření (EUV) – klíčovému zařízení pro výrobu pokročilých čipů, které se hojně používají v nejnovějších telefonech Apple iPhone. Tato nová technologie je základem konkurenční strategie společnosti Canon v oblasti výroby polovodičových součástek.
V pátek 13. října představila japonská technologická společnost Canon inovativní řešení, které má usnadnit výrobu špičkových polovodičových součástek. Podle zprávy CNBC byl nově představený systém “nanoimprintové litografie” navržen tak, aby konkuroval litografickým strojům holandské firmy ASML pro extrémní ultrafialové záření – klíčovému zařízení pro výrobu pokročilých čipů, které se hojně používají v nejnovějších telefonech Apple iPhone. Tato nová technologie je základem konkurenční strategie společnosti Canon v oblasti výroby polovodičových součástek.