Přestože společnost Nvidia Corporation (NASDAQ:NVDA) vykázala výsledky za 2. čtvrtletí fiskálního roku 2025, které byly výrazně lepší než předpoklady, investory zklamala prognóza pro 3. čtvrtletí fiskálního roku. Důvodem bylo především zpoždění nové generace akceleračního čipu umělé inteligence společnosti Nvidia pro datová centra, nazvaného Blackwell. Kolem zpoždění se šířily fámy a objevily se i některé nesprávné či zavádějící informace o Blackwellu. V tomto článku se blíže podívám na zpoždění Blackwellu a na to, co to znamená pro výsledky společnosti Nvidia ve 3. a 4. fiskálním čtvrtletí. Náš názor na zpoždění čipu Blackwell Dne 2. srpna zveřejnil server The Information zprávu, že Blackwell společnosti Nvidia bude zpožděn nejméně o čtvrt roku kvůli blíže nespecifikovaným „konstrukčním vadám“. Obvykle, když člověk slyší o chybách v návrhu čipu, přicházejí na mysl problémy s logickým návrhem nebo chyby. Vedení společnosti Nvidia však během konferenčního hovoru k výsledkům za 2. fiskální čtvrtletí jasně uvedlo, že tomu tak není. Místo toho se vyskytl problém s maskou, který ovlivnil výtěžnost čipu, uvedla finanční ředitelka Colette Kressová: Poptávka po Hopperu je silná a Blackwell se hojně odebírá. Provedli jsme změnu masky GPU Blackwell, abychom zlepšili výtěžnost výroby. Náběh výroby Blackwell je naplánován na čtvrté čtvrtletí a bude pokračovat i ve fiskálním roce '26. Výtěžnost čipů pravděpodobně ovlivňuje počet dobrých čipů, které vzniknou z každého křemíkového waferu vyrobeného partnerskou slévárnou TSMC (TSM). Generální ředitel Jensen Huang zopakoval, že s funkčním návrhem čipu není nic v nepořádku. Změna masky nezměnila funkční logiku čipu. Vývoj masky pro implementaci dané vrstvy obvodů na pokročilém čipu se stal nesmírně složitým procesem. Je to proto, že při extrémní ultrafialové vlnové délce 13,5 nm difrakční efekty a optické zkreslení znamenají, že světelný vzor vytvořený na čipu nevypadá jako maska. Optičtí fyzici se snaží zpětně od požadovaného vzoru předpovědět, jak by maska měla vypadat v závislosti na stroji EUV a dalších faktorech. Tento proces je výpočetně náročný a společnost TSMC investovala do superpočítače Nvidia, který provádí takzvanou „výpočetní litografii“. Tento proces není dokonalý a skutečný vzor vytvořený maskou nemusí odpovídat předpovědi výpočetní litografie. Vzhledem k tomu, že se jedná o problém výtěžnosti, stalo se tak pravděpodobně i v případě Blackwellu, a proto bude trvat několik měsíců, než se najde optimálnější řešení masky a zahájí se masová výroba. O zpoždění firmy Blackwell informovala také analytická agentura Fitch. Nvidia neupřesnila povahu problému. Analytici a vedoucí pracovníci v oboru však tvrdí, že její technické problémy pramení především z velikosti čipů Blackwell, které vyžadují značný odklon od designu. S touto interpretací nesouhlasím. Společnost Nvidia vyrábí své vlajkové akcelerátory GPU (jako je Hopper), při limitu částic TSMC, již několik let. Ten stanovuje maximální fyzickou velikost čipu, který může TSMC vyrábět pomocí EUV litografických strojů vyráběných společností ASML Holding (ASML). Blackwell se sice skládá ze dvou takových čipů, ale proces výroby každého z nich se v podstatě neliší od Hopperu. Blackwell se vyrábí v podstatě stejným procesem TSMC N4 jako Hopper. Fitch pokračuje: Místo jednoho velkého kusu křemíku se Blackwell skládá ze dvou nových pokročilých procesorů Nvidia a mnoha paměťových komponent spojených do jedné jemné sítě z křemíku, kovu a plastu. Výroba každého čipu musí být téměř dokonalá: vážné vady v kterékoli části mohou znamenat katastrofu a s větším počtem zapojených komponent je větší šance, že se tak stane. Opět máme jiný výklad. Skutečnost, že se obal skládá ze dvou čipů, neznamená, že je jejich výroba obtížnější. Každý čip už musí být „téměř dokonalý“. Další složitost spočívá v balení, nikoli ve výrobě křemíku. A rozhodně to nemá nic společného s problémem masky. Uvidíme, kam se snažení Nvidie posune v dalších týdnech a měsících. My v tuto chvíli raději vyčkáváme.